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반도체/전공정 이론7

[11] 공정 관련 기초 3, 진공 플라즈마 진공, 플라즈마 플라즈마에 대해 설명하세요 키워드 플라즈마, 제 4의 물질 상태, 이온화된 가스, 이온, 전자, 중성 입자, 라디칼, 에치, 스퍼터링, CVD 스토리라인 플라즈마는 고체, 액체, 기체로 구분하는 물질의 3가지 상태와 비교해서 또다른 제 4의 물질 상태 라고 얘기할 수 있다. 다시 말해 기체 상태의 분자나 원자가 이온화되어 양이온과 전자가 섞여 있지만 전체적으로는 중성 상태인 이온화된 기체 상태이다. ( 우리가 매일 보는 태양의 경우도 플라즈마의 일종인데 태양의 플라즈마는 모든 원자가 이온화되어 있는 매우 높은 상태의 고온 플라즈마이다. ) 우리가 반도체 공정에서 사용하는 플라즈마는 방전 현상을 이용하여 만든 것으로 백만 개의 기체 분자 중 한개 정도가 이온화되어 있는 이온화율이 낮은 상태.. 2020. 11. 8.
[10] 공정 관련 기초 2 chamber : wafer를 안에 두고 진공, 열, 가스등 필요한 변수들을 제어할 수 있는 공간 cluster : 일반적인 양산 설비로 chamber들의 복합체 (Integrated Cluster Tool이라고도 부른다.) 아래 그림을 보면 이해하기 쉽겠지만 chamber < process chamber < cluster 의 범위를 갖는다. chamber안에서는 진공을 잡는 것이 중요하다. 진공이란 대기압보다 낮은 압력으로 기체가 채워있는 공간으로 pump에 gas 불순물을 제거하고 주입하고 배기하면서 압력을 낮춘다. 그렇다면 왜 진공을 잡는 것이 중요할까? 1. 낮은 분자밀도를 유지하고 불필요한 gas를 배기하기 위함 2. Mean Free path (평균 자유 행로) 확장을 통한 안정적인 plasm.. 2020. 11. 7.
[9] 공정 관련 기초 이제 본격적으로 반도체 공정파트로 들어가보자. 여러 기업 반도체 공정관련 회사들을 지원할때 매우 핵심적인 개념들이다. 반도체를 만드는 공정은 전공정과 후공정 파트가 이 두가지 공정을 들어가기 전에 이 과정은 어디서 이루어질까? 바로 입자, 온도, 습도, 실내 공기압 등이 제어되는 밀폐된 공간이다. 이곳을 우리는 Clean Room이라고 부른다. 여기서는 앞으로 배울 Photo공정에 광학적 영향을 덜 주는 노란색 파장이 나오는 곳에서 작업을 한다. 참고로 노란색과 빨간색은 장파장이다. 따라서 단파장이 제거된 곳에서 작업을 한다고 이해한다면 쉽다. 빛 뿐만아니라 Clean Room에서는 공조과정이 천장과 바닥에서 이루어져 입자들을 철저하게 제어한다. 1입방피트당 0.5um입자의 개수를 Clean Room별로.. 2020. 11. 7.